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1、本論文采用電化學(xué)阻抗譜(EIS)、電化學(xué)噪聲(EN)等電化學(xué)技術(shù)結(jié)合掃描電鏡(SEM)、金相顯微鏡(Metallscopy)等材料研究手段對純鋁、LY12(即AA2024)和LC4(即AA7075)在不同局部腐蝕加速溶液中的腐蝕行為進(jìn)行了研究。得到了如下結(jié)論: 點(diǎn)蝕主要發(fā)生在鋁合金中化學(xué)式量較低的第二相本體上或化學(xué)式量較高的第二相粒子的周圍、并具有隨機(jī)性和離散性的特征;高濃度Cl-離子促進(jìn)了鋁合金的腐蝕、抑制了非穩(wěn)態(tài)點(diǎn)蝕的再鈍化過程
2、。電化學(xué)噪聲譜中出現(xiàn)的連續(xù)電位波動(dòng)可能是由幾個(gè)平行或串行的點(diǎn)蝕過程所產(chǎn)生的電位波動(dòng)組合而成?! ‰娀瘜W(xué)阻抗譜中Nyquist和Bode曲線的形狀特征可以區(qū)分不同時(shí)效鋁合金的晶間腐蝕敏感性,Rt和Clf/Cdl隨時(shí)間變化的曲線特征可以評估局部腐蝕的程度;同時(shí)提出了表征鋁合金晶間腐蝕程度的新參數(shù)Clf/Cdl,并證明了該參數(shù)在鋁合金剝蝕程度表征中的普適性?! C4和LY12鋁合金在剝蝕過程中表現(xiàn)出類似的電化學(xué)規(guī)律?! ≌撐耐瑫r(shí)研究了
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