基于FPGA的非制冷紅外焦平面陣列非均勻性校正技術(shù)研究.pdf

1、非制冷紅外焦平面陣列是目前紅外熱成像領(lǐng)域中最為活躍的研究熱點(diǎn)之一。它不僅在軍事領(lǐng)域得到了充分的重視，而且在民用領(lǐng)域也獲得了廣泛的關(guān)注。由于制作材料的限制和制作工藝的不完善導(dǎo)致非制冷紅外焦平面陣列各單元響應(yīng)不同，陣列中甚至存在某些有缺陷的單元，導(dǎo)致了紅外圖像的非均勻性，影響了紅外成像系統(tǒng)的探測(cè)性能。因此，非均勻性校正成為紅外熱成像技術(shù)中至關(guān)重要的問題。通過(guò)附加的非均勻性校正電路進(jìn)行實(shí)時(shí)校正是提高探測(cè)性能的有效途徑。
　　目前，國(guó)內(nèi)外

2、文獻(xiàn)中提出了大量的非均勻性校正算法，本文介紹了其中比較有代表性的算法，并分析了它們各自的特點(diǎn)，從而選定了適用于實(shí)時(shí)非均勻校正的基于溫度定標(biāo)的校正方法。在溫度定標(biāo)校正方法中，一點(diǎn)、兩點(diǎn)校正法的校正精度不盡如人意，因此選擇多點(diǎn)校正法。而多點(diǎn)校正法的關(guān)鍵問題在于輻照度范圍的判定，判定過(guò)程需要大量的數(shù)據(jù)作比較。用電路實(shí)現(xiàn)多點(diǎn)校正法時(shí)，需要存儲(chǔ)這些數(shù)據(jù)，這樣就造成了系統(tǒng)設(shè)計(jì)困難，增加了系統(tǒng)成本。本文根據(jù)熱敏單元響應(yīng)單調(diào)遞增的特性，提出了多點(diǎn)校正法