基于紫外納米壓印技術(shù)微納結(jié)構(gòu)減反材料的研究.pdf

1、微納結(jié)構(gòu)具有優(yōu)越的光學(xué)減反性能，在光學(xué)器件、太陽(yáng)能電池板等多個(gè)領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用。蛾眼納米結(jié)構(gòu)作為微納結(jié)構(gòu)中的一種，其具有寬波段和大視角的減反特性。本文通過(guò)紫外納米壓印技術(shù)在聚合物表面制備蛾眼納米結(jié)構(gòu)，并對(duì)其成型和減反性能進(jìn)行了相關(guān)的理論和實(shí)驗(yàn)研究。
　　納米壓印技術(shù)作為新一代光刻技術(shù)，被廣泛用于微納結(jié)構(gòu)制作。本文采用紫外納米壓印工藝結(jié)合點(diǎn)膠工藝，在聚合物表面制備了面積為200mm×200mm，表面平整，結(jié)構(gòu)完整的蛾眼納米結(jié)構(gòu)薄膜層，

2、蛾眼納米制品的反射率在波段為350-850nm，垂直入射的情況下最低平均反射率已經(jīng)可以達(dá)到1％-2％之間，并且入射角度在110°以內(nèi)都能達(dá)到良好的減反效果。
　　探索出了滾對(duì)平板(RTP)壓印工藝中用PDMS軟膜制備蛾眼納米結(jié)構(gòu)的優(yōu)化參數(shù)，在壓力0.15Mpa，轉(zhuǎn)寫(xiě)速度1mm/s，紫外膠的粘度100cps工藝條件下，成功在聚合物表面制備出蛾眼納米結(jié)構(gòu)薄膜，并在AFM下觀察蛾眼納米結(jié)構(gòu)復(fù)制率高表面平整，缺陷比較少。另外，提出用PDM

3、S軟膜套在滾子上，使本工藝可以實(shí)現(xiàn)連續(xù)成型，并通過(guò)以上實(shí)驗(yàn)就行了初步驗(yàn)證了可行性。
　　采用FDTD理論，研究了不同面型的納米結(jié)構(gòu)的減反射特性，主要分析了特征參數(shù)對(duì)反射率的影響。模擬結(jié)果表明，金子塔面型、圓錐面型和拋物線面型在400nm-1000nm分別的實(shí)現(xiàn)了0.5％、0.7％、0.35％的反射率。
　　最后通過(guò)查閱文獻(xiàn)，對(duì)比了各個(gè)測(cè)試系統(tǒng)的優(yōu)缺點(diǎn)，搭建了一套符合本實(shí)驗(yàn)要求的測(cè)試系統(tǒng)，對(duì)聚合物表面蛾眼納米薄膜的光學(xué)性能進(jìn)行