ICP封閉裝置的研制及氬氣-氦氣氛圍ICP-MS的研究.pdf

1、電感耦合等離子體質譜(ICP-MS)是一種比較成熟和強有力的痕量元素和同位素分析技術。然而背景干擾,主要是氬、氧、氮、氫等形成的離子或多原子離子干擾,已成為ICP-MS的一個嚴重問題。如果能從ICP離子源源頭上降低或消除這些干擾的形成,就會改善ICP-MS的分析性能。本文主要是對ICP-MS的離子源進行改進和研究。
　　 我們研制了一個封閉ICP離子源的裝置,外接氣體就可在ICP離子源周圍填充氣體。該裝置由聚四氟乙烯后板、聚四氟

2、乙烯圓柱套、屏蔽罩外殼和中空紫銅塊加循環(huán)水冷卻器等組成,散熱效果好,長時間運轉儀器穩(wěn)定,結構緊湊,拆卸方便,運轉成本低。
　　 溶液進樣氬氣氛圍ICP-MS,能減低氮、碳等形成的背景干擾,改善線性和檢出限。激光燒蝕氬氣氛圍ICP-MS能使31p、54Fe、56Fe、57Fe、58Fe、60Ni、66Zn等質量數(shù)的背景都下降幾倍甚至20倍,線性和檢出限改善。用該系統(tǒng)進行了銅樣品分析,14種元素的測定結果與標稱值(或溶液進樣ICP-

3、MS結果)相吻合。
　　 氦氣氛圍ICP-MS能使所有質量數(shù)的背景和噪聲都明顯下降,尤其是氬和氬基形成的背景。溶液進樣氦氣氛圍ICP-MS,40Ca和80Se也能用于測定。激光燒蝕氦氣氛圍ICP-MS能使易受背景嚴重干擾的質量數(shù),如28Si,29Si,31P和32s,線性和檢出限明顯改善,同時可以減少氧化物的形成,對難原子化或難電離元素的測定也能適用。
　　 因此該裝置能把ICP離子源封閉起來,填充不同的氣體使ICP工作